无掩模高精度激光直写

特点:无掩模光刻

型号:德国海德堡DWL66+

样品:2至8英寸,最大9英寸方形版,碎片15mm*15mm以上;

分辨率最高精度:0.3μm;

套刻精度:±0.5μm;

激光光源:405nm,功率300mW

0.6μm和0.3μm两种写头

曝光速度分别为13mm2/min和3mm2/min;

特色应用

具备灰阶三维结构光刻功能

主要用于:光刻掩模板制备,三维凸板制备

利用强度可变的激光束对基底表面的光刻胶进行曝光,显影得到所需要的任意图形。

特色应用:灰度掩模版+高精度光刻版

显影后图形

三维光刻图形

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