光刻技术-无掩模高精度激光直写
无掩模高精度激光直写
特点:无掩模光刻
型号:德国海德堡DWL66+
样品:2至8英寸,最大9英寸方形版,碎片15mm*15mm以上;
分辨率最高精度:0.3μm;
套刻精度:±0.5μm;
激光光源:405nm,功率300mW
0.6μm和0.3μm两种写头
曝光速度分别为13mm2/min和3mm2/min;
特色应用
具备灰阶三维结构光刻功能
主要用于:光刻掩模板制备,三维凸板制备
利用强度可变的激光束对基底表面的光刻胶进行曝光,显影得到所需要的任意图形。
特色应用:灰度掩模版+高精度光刻版
显影后图形
三维光刻图形
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