《炬丰科技-半导体工艺》集成微加工平台各向异性腐蚀
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:集成微加工平台各向异性腐蚀
编号:JFKJ-21-161
作者:炬丰科技
摘要
本研究提出了一种批量微加工方法 : 在单晶硅上的制造平台。 制作平台采用了垂直角补偿结构和概念保护结构集成了各向异性蚀刻和DRIE工艺。 基于这些特点湿各向异性刻蚀和DRIE,各种MEMS 组件使用大块microma贴合平台进行演示。 例如,游离悬浮薄由形成的薄膜结构和倾斜结构采用湿法蚀刻法制备晶体平面。 在另一方面,有任意形状的台地和空腔以及不同高度(或深度)的结构是由DRIE的特性来实现的。 自上述结构可以制作和集成格栅使用提出的制作平台,大量微加工工艺的应用将显著增加。
关键词DRIE,湿各向异性刻蚀,本体微加工
介绍
块体硅微加工被认为是微加工的一种主要的MEMS制造技术。 在硅基板上刻蚀后,可得到多种密封加工结构。 此外,凸角底切效应被广泛应用于制备自由悬浮薄膜结构。 目前, 高纵横比器件越来越多在MEMS应用中非常重要。 例如,晶体硅片也被用作材料,以增加它们的惯性和刚度。 湿各向异性蚀刻和DRIE深反应离子蚀刻,两种最常见的深硅蚀刻技术。然而,湿各向异性蚀刻的应用是仅限于硅衬底的晶面和凸角咬边效应; DRIE技术是不能制造自由悬挂结构。 因此, 现有的大块硅微加工工艺有限的可用元件成为强大的晶圆厂平台。采用垂直角补偿的概念结构,以防止在湿各向异性腐蚀表现中。 保护结构也被用来保护非晶面。 因此,可以使用干湿各向异性蚀刻协助增加各种批量微加工MEMS器件。在DRIE的助手下,台地和使用该方法可以制造任意形状的空腔湿的各向异性腐蚀。 此外,这些台地和空腔可以进一步与悬浮薄膜结合结构体与结构体形成倾斜 晶面。
......
本文讲述了概念和制造过程,原因,结论等问题
《炬丰科技-半导体工艺》集成微加工平台各向异性腐蚀相关推荐
- 《炬丰科技-半导体工艺》湿法加工中掩模对准晶体方向的确定
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:湿法加工中掩模对准晶体方向的确定 编号:JFKJ-21-1697 作者:华林科纳 引言 微流体和光学传感平台通常由玻璃和熔融石英(石英)制成,因为它们 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》氧化铝陶瓷基板上的紫外激光微加工和化学蚀刻
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:氧化铝陶瓷基板上的紫外激光微加工和化学蚀刻 编号:JFKJ-21-1635 作者:华林科纳 引言 在这项研究中,使用Nd:YVO4紫外激光器对用作多层 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 高频磷化铟芯片晶圆级背面加工
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:高频磷化铟芯片晶圆级背面加工 编号:JFKJ-21-1145 作者:华林科纳 一直致力于减少磷化铟(InP)中的衬底共振和地面反弹效应,基于通过晶圆级 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》单层胶体晶体的微纳米光刻技术研究进展
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:单层胶体晶体的微纳米光刻技术研究进展 编号:JFKJ-21-405 作者:炬丰科技 摘要 由于其迷人的特性和广泛的应用,高度有序的纳米结构在研究界引起 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》等离子体的微纳米制造
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:等离子体的微纳米制造 编号:JFKJ-21-464 作者:炬丰科技 摘要 自信息时代到来以来,不断缩小和降低半导体产品成本的需求日益增长.为了满足这一 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 SC-1重复清洗CZ硅片微生长缺陷的研究
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:SC-1重复清洗CZ硅片微生长缺陷的研究 编号:JFKJ-21-1310 作者:华林科纳 本文将对具有相同特性的晶片进行反复洗脱,用AFM测量了增加的 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》硅片湿法清洗技术
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:硅片湿法清洗技术 编号:JFHL-21-1063 作者:炬丰科技 引言 以DRAM及CPU为代表的超大规模集成电路硅半导体器件,近年来成为个人电脑热潮 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 迈向硅衬底上的紫外光电系统
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:迈向硅衬底上的紫外光电系统 编号:JFKJ-21-1158 作者:华林科纳 硅可以大直径的形式大量生产.硅的另一个优势是与基于主流互补金属氧化物半导体 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》利用microLED显示技术缓解芯片间通信瓶颈
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:自选择性化学镀 编号:JFKJ-21-1016 作者:炬丰科技 基于氮化镓的微透镜显示器产生的高速光发射器可以以更高的密度传输数据比铜更低的功率,带来 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 硅光电子器件上的单片砷化铟量子点
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:硅光电子器件上的单片砷化铟量子点 编号:JFKJ-21-1146 作者:华林科纳 单片集成的光电探测器和使用砷化铟的激光器硅上铟镓砷/铝镓砷阱/势垒有 ...
最新文章
- 机器学习与统计学的争论,有意义吗?
- AI帮你写Python,安装只需5步,还能任你调教 | 开源
- Entity Framework (EF)/Linq To entity/ ESQL(entity sql)区别 ADO.NET Entity Framework:来自微软官方的ORM框架
- 判断客户端是否安装FlashPlayer及版本
- 【Hoxton.SR1版本】Spring Cloud Consul服务注册中心搭建
- 用Android自带的signapk.jar + .x509.pem + .pk8签名应用程序 - anfflee
- .net framework 3.5win10无法安装,一招解决win10无法安装.NET Framework 3.5
- 需要记住的的资料网址
- 2143.replace.favo.xrcch.com Dns劫持解决方案
- 运动健身耳机什么好?四款运动蓝牙耳机之好评
- 【干货】张小龙的30条产品法则
- 桌面上的文件夹存储路径是什么?桌面文件夹误删了怎么找回
- 钻展店铺推广,单品计划和超级推荐的区别
- 免费下载思科CCNP 642-861考试题库
- 当内嵌图层有图层样式时,如何在其上边创建图层剪切蒙版
- Stokes theorem
- 微服务学习笔记 K8S、ISTIO、微服务、容器不得不说的故事
- 米家小相机最新固件_#本站首晒#699元的运动相机 — 小米 米家小相机开箱简评...
- 智能电表远程抄表系统
- MySQL基础语法总结