电路失调与CMRR—— 随机失调与系统失调分析(1)

  • 前言
    • 1.1失调
    • 1.2失调电路模型
      • 1.2.1随机失调电路模型
        • (1)电阻失配
        • (2)跨导失配
        • (3)电流镜的随机失调
      • 1.2.2系统失调

前言

  本文主要内容是失调与CMRR,参考书籍为Sansen的《模拟集成电路精粹》。
  第一节,主要是关于失调相关内容。首先,对失调的概念进行了定义,对失调的两个主要因素随机失调和系统失调进行说明。然后通过对简单的电阻负载电流镜进行分析,给出了失调电压的分析模型方法,并简要分析了模型中产生失调的几个参数,探讨了过驱动电压以及强/弱反型区对失配的影响。
  第二节,主要是关于CMRR相关内容。(详细内容后续更新)
  第三节,对5OTA电路为例,进行失调和CMRR进行分析。(详细内容后续更新)

1.1失调

  对于一个单端运算放大器,当输入为零时,它的理想输出应为零,但由于随机的影响因素或设计中的系统错误,往往输出不为零。
  失调电压 vosv_{os}vos​:使输出为零时的两端输入电压之差。对于差分输入结构,失调电压vosv_{os}vos​ 既可以等效在同相输入端,也可以等效在反相输入端,二者符号相反。这里应当注意,失调电压指的是可以让输出重新为零的输入电压,可以理解为一个修正电压,可以补偿随机失调或者系统失调,文中说存在失调,则说明电路非理想。

  失调电压主要来源于随机因素系统因素。①随机失调主要指MOS在制造过程中,由于刻蚀、离子注入等工艺过程的随机性和环境的不确定性导致不同MOS之间的工艺参数会出现差异而产生的失调;②系统失调指电路系统结构不对称,使器件所处电学环境出现差异而产生的失调。
  一般来说,随机失调的统计特性呈现高斯分布。通常用平均值、离散度或 δδδ 来表示高斯分布。离散度与器件的尺寸相关,δ与晶体管面积WL的平方根成反比,常见会出现失调的工艺参包括阈值电压 VTV_{T}VT​、K′K'K′、WLWLWL、衬底偏置效应系数 γγγ,其中源漏短接可以小区 γγγ 的影响(考虑版图的话,可能也消不掉,这点以后说)。通过对这些参数失调进行分析,可以建立它们与失调之间的关系。

1.2失调电路模型

1.2.1随机失调电路模型

(1)电阻失配

  首先研究电路中负载电阻R不对称尾电流源输出阻抗有限情况,假设尾电流源输出阻抗为 RBR_{B}RB​,在输入端加入小信号共模电压 Vin,cmV_{in,cm}Vin,cm​,如图1.1(a)。

  对 PPP 点,由 KCLKCLKCL 得

  得到 PPP 点电压与尾电流表达式

  由于负载电阻的失配,导致共模输入时,VXV_{X}VX​和VYV_{Y}VY​ 的变化不相同,可以有如下表示。

  由失配电压的定义,输出失配电压 vod=−(VX−VY)v_{od}=-(V_{X}-V_{Y})vod​=−(VX​−VY​),由如下表达

  其中M1-M2无失配,gm1=gm2=gmg_{m1}=g_{m2}=g_{m}gm1​=gm2​=gm​,由(1.2)、(1.4)得输入失配电压。

  也可以直接假设左右两支路经过相同的电流 IB/2I_{B}/2IB​/2 然后在失配电阻上产生压降,计算得到输出失配电压 vodv_{od}vod​,再除以小信号增益,也可以得到相同结果,本文采用相对复杂的计算,是为了方便得到通用公式。

(2)跨导失配

  仅考虑跨导失配,电路如图1.2所示。

  由于跨导的失配,导致共模输入时,VXV_{X}VX​和VYV_{Y}VY​ 的变化不相同,通过式(1.2)可以得到

  由失配电压的定义,输出失配电压 vod=−(VX−VY)v_{od}=-(V_{X}-V_{Y})vod​=−(VX​−VY​),不妨令 gm1+gm2=2gmg_{m1}+g_{m2}=2g_{m}gm1​+gm2​=2gm​,且 gm1−gm2=∆gmg_{m1}-g_{m2}=∆g_{m}gm1​−gm2​=∆gm​,输出失配电压可以表示为

  同样的由式(1.2)、(1.7)得到

  其中跨导产生的失配,可以由 K′K'K′、WLWLWL 等工艺参数引起,通过类似的计算,可以得到总的失配电压表达式

  阈值电压 VTV_{T}VT​ 的失配,可以直接等效到输入端(很好理解的),失调电压表达式包含四项,代表了最坏失调结果。其中三项乘以 (VGS−VT)/2(V_{GS}-V_{T})/2(VGS​−VT​)/2,减小晶体管的过驱动电压,或者将其工作在弱反型区,可以减小失调。

(3)电流镜的随机失调

  对于如图1.3结构的电流镜,主要关心差分输出电流的失配,对于电流镜结构有

  漏电流的失调,包含工艺参数 βββ 和阈值电压 VTV_{T}VT​ 两个因素,为方便讨论, WLWLWL 和 K′K'K′ 的失调,包含在工艺参数 βββ 的失调中。如图1.4所示的PPT中所示,对电流进行求导。

  通过表达式可知,对于大的 VGS−VTV_{GS}-V_{T}VGS​−VT​,工艺参数 βββ 失调占主导,电流镜的失调就是这种情况;对于一个小的 VGS−VTV_{GS}-V_{T}VGS​−VT​,此时阈值电压的失调占主导;

  另外,当MOS被偏置在弱反型区时,nkT/qnkT/qnkT/q 可以取代 VGS−VTV_{GS}-V_{T}VGS​−VT​,显然在弱反型区,阈值电压的离散是主要的。在强反型区,β的离散是主要的,βββ 的离散主要来源于 WWW 和 LLL 的离散。

1.2.2系统失调

  系统失配的主要来源是系统电路结构的不对称。以电流镜负载的差分放大器为例,不考虑随机失配,由于电路的不对称,使得电流镜MOS的 VDSV_{DS}VDS​ 产生差异,考虑到沟道长度调制效应的存在,即使MOS都处于饱和区,不同的 VDSV_{DS}VDS​ 仍然会产生一个电流复制的误差 ∆Iout∆I_{out}∆Iout​,如图1.6所示。

  关于系统失配,需要根据特定的电路进行分析。更详细的内容,将在CMRRCMRRCMRR电路结构分析时进行分析。

分割线

  下部分内容,《电路失调与CMRR——随机失调CMRR与系统失调CMRR》




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