证实!对华28nm以下大硅片出口管制已纳入瓦森纳协定
导读:9月14日,立昂微在互动平台回复投资者提问时表示,用于28纳米以下制程的12英寸硅片已纳入瓦森纳协定。
来源:互动平台
投资者在互动平台咨询立昂微:国际前5大硅片生产商的12英寸用于28纳米以下制程的硅片是不对国内出售的,请问是否属实?立昂微公司回答表示,据了解,用于28纳米以下制程的12英寸硅片已纳入瓦森纳协定。
芯片大师认为,作为国内老牌硅片制造商,立昂微的这一回复可信度极高。侧面证实了西方对华硅片材料出口限制已经从14nm扩大到28nm节点,实质上突破了2019年年底修订的《瓦森纳协定》对硅片的出口限制范围。
如果属实,在国内12英寸大硅片技术和产能取得实质突破之前,或许晶圆厂的28nm及以下工艺产线暂时难以获得进口硅片。从终端客户(实体清单)、主芯片(GPU、代工)、设备(光刻机等)、大硅片再到EDA,对国内先进芯片的上游设计和制造环节合围已经形成。
图:《瓦森纳协定》2019年新增条款
2019年年底,《瓦森纳协定》完成了一次对中国大陆半导体发展影响巨大的一次修订。其中对于大硅片技术管制的具体内容表述为:“对300mm直径硅晶圆的切割、研磨、抛光达到局部平整度的技术要求,在任意26mm*8mm的面积内平整度差小于等于20nm,以及边缘去除方面小于等于2mm。”
一位硅片业内人士解读称,这是行业内关于硅片平整度技术要求的最精准描述。换成大家都看得懂的说法就是,限制用于14nm及以下制程工艺的大硅片生产制造技术,不光硅片,所有涉及的技术、设备等都在出口管制之内。
“在40nm制程节点以下,对于硅片要求基本是差不多的,对应的技术节点主要是看光刻机下套准的精度是多少,精准度越高,平整度就要求越高,所以限制平整度绝对是专业手法。”
图:立昂微制造的硅材料
与此同时,在硅片材料外,对华出口限制了先进工艺节点最重要的两大工具——EDA软件和制造设备(含EUV光刻机)。但在此之前,西方公开的出口管制政策一直停留在7nm-14nm节点,12英寸硅片也是如此。
公布该消息的立昂微成立于2002年3月,创始人阙端麟院士是中国最早研究硅材料的科学家之一,曾任浙江大学副校长。
2000年,阙端麟院士创办硅片制造企业浙江金瑞泓(现为立昂微子公司),2010年承担了02专项的“200mm硅片研发与产业化及300mm硅片关键技术研究”项目,目前已建成15万片的12英寸硅片产能,在图像传感器件和功率器件上已实现大规模出货。
图:上海新昇大硅片项目奠基仪式
(右六为张汝京博士)
而另一家承担了02专项的大硅片制造企业为张汝京博士创办的上海新昇(现为沪硅产业子公司)。
作为一开始就瞄准“12英寸硅片卡脖子”的明星企业,上海新昇不负众望,开发出用于20-14nm先进逻辑和存储器的300mm硅片技术,目前已建设完成30万片月产能的生产线,累计实现销售达到600万片。
此外,产能上有望解决晶圆厂“燃眉之急”的12英寸硅片制造企业还有中环股份、有研半导体、中欣晶圆、奕斯伟、上海超硅等。
但12英寸晶圆已经量产使用超过20年,这些国产“后生”追赶的难度也是显而易见的。一是部分企业投资存在不确定性,存在泡沫产能无法落地;二是产品市场上,大部分企业没有突破到40nm以内逻辑制程正片的规模出货;三是缺乏规模优势难以获得市场认可,成熟工艺市场和五大国际硅片厂(日本信越、胜高、台湾环球晶圆、德国Siltronic和韩国SK Siltron)动辄百万片的产能及成本难以竞争。
这次的28nm管制,能刺激国内晶圆厂和硅片厂“结盟”并在材料领域掀起“替代潮”吗?
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