模电知识体系总结-1.1半导体基础器件
模电知识体系总结
第一章:常用半导体器件
1.1半导体基础器件
1.1.1本征半导体
纯净的具有晶体结构的半导体称为本征半导体。
常用的半导体材料硅(Si)和锗(Ge)均为四价元素。
在常温下,仅有极少数的价电子由于热运动(热激发)获得足够的能量,从而挣脱共价键的束缚变成为自由电子。与此同时,在共价键中留下一个空位置,称为空穴。
运载电荷的粒子称为载流子。导体导电只有一种载流子,即自由电子导电;而本征半导体有两种载流子,即自由电子和空穴均参与导电,这是半导体导电的特殊性质。
半导体在热激发下产生自由电子和空穴对的现象称为本征激发。
自由电子在运动的过程中如果与空穴相遇就会填补空穴,使两者同时消失,这种现象称为复合。
在一定的温度下, 本征激发所产生的自由电子与空穴对,与复合的自由电子与空穴对数目相等,故达到动态平衡。换言之,在定温度下,本征半导体中载流子的浓度是一定的,并且自由电子与空穴的浓度相等。当环境温度升高时,热运动加剧,挣脱共价键束缚的自由电子增多,空穴也随之增多,即载流子的浓度升高,因而必然使得导电性能增强。反之,若环境温度降低,则载流子的浓度降低,因而导电性能变差。
本征半导体的导电性能很差,且与环境温度密切相关。半导体材料性能对温度的这种敏感性,既可以用来制作热敏和光敏器件【好处】,又是造成半导体器件温度稳定性差的原因【劣势】。
1.1.2杂质半导体
一、N型半导体
在纯净的硅晶体中掺入五价元素(如磷),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了N型半导体。N为Negative(负)的字头,由于电子带负电,故得此名。
N型半导体中,自由电子的浓度大于空穴的浓度,故称自由电子为多数载流子,空穴为少数载流子;简称前者为多子,后者为少子,由于杂质原子可以提供电子,故称之为施主原子。N型半导体主要靠自由电子导电,掺人的杂质越多,多子(自由电子)的浓度就越高,导电性能也就越强。
二、P型半导体
在纯净的硅晶体中掺入三价元素(如硼),使之取代晶格中硅原子的位置,就形成了P型半导体。P为Positive (正)的字头,由于空穴带正电,故得此名。
因而P型半导体中,空穴为多子,自由电子为少子,主要靠空穴导电。与N型半导体相同,掺人的杂质越多,空穴的浓度就越高,使得导电性能越强。因杂质原子中的空位吸收电子,故称之为受主原子。
注意:掺杂浓度不可过高,少量掺杂不会改变晶体内部结构,但是掺杂浓度高了,会改变晶体内部的结构!
1.1.3 P N 结
采用不同的掺杂工艺,将P型半导体与N型半导体制作在同一块硅片上,在它们的交界面就形成P N结。P N结具有单向导电性。
一、P N结的形成
物质总是从浓度高的地方向浓度低的地方运动,这种由于浓度差而产生的运动称为扩散运动。【即空穴从P向N扩散,电子从N向P扩散】
由于扩散到P区的自由电子与空穴复合,而扩散到N区的空穴与自由电子复合,所以在交界面附近多子的浓度下降,P区出现负离子区,N区出现正离子区,它们是不能移动的,称为空间电荷区,从而形成内电场。随着扩散运动的进行,空间电荷区加宽,内电场增强,其方向由N区指向P区,正好阻止扩散运动的进行。
在电场力作用下,载流子的运动称为漂移运动。当空间电荷区形成后,在内电场作用下,少子产生漂移运动,空穴从N区向P区运动,而自由电子从P区向N区运动。在无外电场和其它激发作用下,参与扩散运动的多子数目等于参与漂移运动的少子数目,从而达到动态平衡,形成P N结。
当P区与N区杂质浓度相等时,负离子区与正离子区的宽度也相等,称为对称结;而当两边杂质浓度不同时,浓度高一测的离子区宽度低于浓度低的一测,称为不对称P N结;两种结的外部特性是相同的。【对外等效】
绝大部分空间电荷区内自由电子和空穴部都非常少,在分析P N结特性时常忽略载流子的作用,而只考虑离子区的电荷,这种方法称为“耗尽层近似”,故也称空间电荷区为耗尽层。
二、P N结的单向导电性
如果在P N结的两端外加电压,就将破坏原来的平衡状态。此时,扩散电流不再等于漂移电流,因而P N结将有电流流过。当外加电压极性不同时,P N结表现出截然不同的导电性能,即呈现出单向导电性。
P N结外加正向电压时处于导通状态
当电源的正极(或正极串联电阻后)接到P N结的P端,且电源的负极(或负极串联电阻后)接到P N结的N端时,P N结外加正向电压,也称正向接法或正向偏置。此时外电场将多数载流子推向空间电荷区,使其变窄,削弱了内电场,破坏了原来的平衡,使扩散运动加剧,漂移运动减弱。由于电源的作用,扩散运动将源源不断地进行,从而形成正向电流,P N结导通。【注意:内电场的产生是漂移作用,而漂移作用是少子的运动,所以很微弱,极易打破】
P N结外加反向电压时处于截止状态
当电源的正极(或正极串联电阻后)接到P N结的N端,且电源的负极(或负极串联电阻后)接到P N结的P端时,称P N结外加反向电压,也称反向接法或反向偏置。此时外电场使空间电荷区变宽,加强了内电场,阻止扩散运动的进行,而加剧漂移运动的进行,形成反向电流,也称为漂移电流。因为少子的数目极少,即使所有的少子都参与漂移运动,反向电流也非常小,所以在近似分析中常将它忽略不计,此时我们认为P N结外加反向电压时处于截止状态。
三、P N结的电流方程
P N结所加端电压u与流过它的电流i的关系为
.常温下,即T=300 K时,
UT≈26mVU_T ≈ 26 m V UT≈26mV
四、P N结的伏安特性
当P N结外加反向电压,
∣u∣>>UT时,i≈−IS|u| >> U_T 时, i ≈ -I_S ∣u∣>>UT时,i≈−IS
,称为P N结的伏安特性。其中u>0的部分称为正向特性,u<0的部分称为反向特性。
当反向电压超过一定数值U(BR)后,反向电流急剧增加,称之为反向击穿。击穿按机理分为齐纳击穿和雪崩击穿两种情况。
在高掺杂的情况下,因耗尽层宽度很窄,不大的反向电压就可在耗尽层形成很强的电场,而直接破坏共价键,使价电子脱离共价键束缚,产生电子-空穴对,致使电流急剧增大,这种击穿称为齐纳击穿,可见齐纳击穿电压较低。如果掺杂浓度较低,耗尽层宽度较宽,那么低反向电压下不会产生齐纳击穿。【升温使齐纳击穿电压下降:温度升高导致电子能量增多 ,更容易挣脱共价版键的束缚,只要提高一点外加电压 即可使电子脱离共价键,所以齐纳击穿电压降低】
当反向电压增加到较大数值时,耗尽层的电场使少子加快漂移速度,从而与共价键中的价电子相碰撞,把价电子撞出共价键,产生电子-空穴对。新产生的电子与空穴被电场加速后又撞出其它价电子,载流子雪崩式地倍增,致使电流急剧增加,这种击穿称为雪崩击穿。【升温使雪崩击穿电压上升:温度升高使晶体震动,减少了电子的加速距离,更容易撞到晶体,没有足够的加速,很难撞散共价键】
五、P N结的电容效应
势垒电容
当P N结外加电压变化时,空间电荷区的宽度将随之变化,即耗尽层的电荷量随外加电压而增大或减小,这种现象与电容器的充放电过程相同。耗尽层宽窄变化所等效的电容称为势垒电容C。C p 具有非线性,它与结面积、耗尽层宽度、半导体的介电常数及外加电压有关。利用P N结加反向电压时C,随u变化的特性,可制成各种变容二极管。
扩散电容
P N结处于平衡状态时的少子常称为平衡少子。P N 结处于正向偏置时,从P区扩散到N区的空穴和从N区扩散到P区的自由电子均称为非平衡少子。当外加正向电压一定时,靠近耗尽层交界面的地方非平衡少子的浓度高,而远离交界面的地方浓度低,且浓度自高到低逐渐衰减,直到零。形成一定的浓度梯度(即浓度差),从而形成扩散电流。当外加正向电压增大时,非平衡少子的浓度增大且浓度梯度也增大,从外部看正向电流(即扩散电流)增大。当外加正向电压减小时与上述变化相反。
本文为自己学习模电时的总结和一些课外知识的补充拓展,图片和知识来源于:
希望对自己和大家都有所帮助!
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