《炬丰科技-半导体工艺》 PVA 刷擦洗
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：PVA 刷擦洗
编号：JFKJ-21-1079
作者：炬丰科技
引言
本文简要综述了所提出的清洗机制。然后介绍了聚VA刷摩擦分析结果。在摩擦分析中，刷的粘弹性行为、平板的表面润湿性以及刷的变形是重要的。此外，我们还介绍了PVA电刷和接触面之间真实接触面积的可视化结果。在半导体器件制造过程中，这次的专题“清洗与净化”是一个非常重要的事项。基本上半导体工厂都是洁净室，各种工艺都是在极度受控的环境下使用的。
实验
用PVA刷摩擦表面的清洗机构并不那么简单。那是因为使含有非常多液体的刷子在表面移动，因此提出了如Fig.1所示的各种清洗模型。用液体和固体去除表面存在的粒子，为正混相流。
另外，在这样的干洗中，据说粒子的除去性会根据进行 洗涤的高分子（洗涤工具）、要除去的粒子、以及被洗涤物 表面各自之间的分子间力的大小的不同、该高分子的形 状而发生 变化。例如对附着有二氧化硅粒子的PMMA平 面（被清洗物）进行清洗。面向壁虎自清洁机 制的阐明，报道了活跃的研究成果“3-7” O在利用模拟 它们的高分子进行干洗（不使用液体的干燥状态下的粒子 除去）中，图.2中显示。
另外，在这样的干洗中，据说粒子的除去性会根据进行 洗涤的高分子（洗涤工具）、要除去的粒子、以及被洗涤物 表面各自之间的分子间力的大小的不同、该高分子的形 状而发生 变化。例如对附着有二氧化硅粒子的PMMA平 面（被清洗物）进行清洗。面向壁虎自清洁机 制的阐明，报道了活跃的研究成果“3-7” O在利用模拟 它们的高分子进行干洗（不使用液体的干燥状态下的粒子 除去）中，图.2中显示。
PVA电刷的折动特性：对象物表面润湿性的影响 在半导体制造工序中使用的PVA刷中，有被称为辐刷，复盖整个晶片，一边在水平轴 上旋转一边使用的刷，也有薄板和块形状 的刷，根据情况，有时在铅直轴上旋转一 边使用。
结果和讨论
关于PVA刷的擦洗清洗，着眼于其剪切力进行了介绍。 根据我们的实验，PVA电刷滑动时电刷与表面处于接触状态，剪切力因板的润湿性和电刷的变形状态而有很大差异。 另外，介绍了剪切力生成机构模型。 近年来，人们强烈希望进行非接触式洗涤。 另一方面，也有一些清洗手法很难改变，比如广泛用于汽车、飞机等的雨刷技术。 通过PVA刷的擦洗清洁也与超声波、喷射清洁等共存，并且预期它们在适当的材料和位置处继续使用。 因此，需要进一步阐明关于每种洗涤方法的详细洗涤机制。
总结
根据阿蒙顿-库仑定律，动摩擦是恒定的，而与滑动度无关。 的确，铝的结果，没有看到转速依赖性。 另一方面，润湿性越差的材料，剪切力随转数而变化。 这被预测为来自真实接触面积。 已知真实接触面积随着接触时间的推移而增加，预计具有较长弛豫时间的PVA刷也同样增加真实接触面积。 因此，我们认为，随着转速的增加，摩擦系数减小。 另外，结节碰撞时水的行为也有差异。 预测这些也影响了摩擦力的差异。 由于摩擦系数的值都大于0.5，即使液体粘度增加，摩擦系数的值也不会改变]，并且在剪切力的时间序列数据中经常观察到粘滑现象，因此得出了PVA刷与表面直接接触的结论。
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