Charge Pump电荷泵中current mismatch和current deviation指什么？

今天读有关于电荷泵的文献时，看到ref[1]中有这样一段话：

这才反应过来原来CP中的current mismatch和deviation不是一回事啊！
然后花了点时间把它俩的区别搞清楚了一下：
首先这两主要都是由于MOS管沟道长度调制效应引起的毛病。
但不同的是current mismatch的主要原因是传统CP结构NMOS和PMOS的沟道长度调制系数不相等，因此 I u p I_{up} Iup和 I d n I_{dn} Idn不相等，也就不match了，应用在PLL中可能会导致更大的spur和phase noise。
如下图所示(ref[2])，2000年Jae-Shin Lee等人提出的利用多级电流镜+运放的方式，让REF和CPOUT的输出电位相等，从而保证 I d n = I 4 = I 3 = I 2 = I 1 = I u p I_{dn}=I_4=I_3=I_2=I_1=I_{up} Idn=I4=I3=I2=I1=Iup，实现了source current和sink current之间的匹配。

即实现了current match之后， I u p I_{up} Iup和 I d n I_{dn} Idn是相等了，但是却因为沟道长度调制效应的缘故，依旧会存在deviation，即右图中电流曲线不保持恒定值，而是会有一定漂移，这会带来PLL环路参数的变化，同时让CP本身的dynamic range减小。

利用全差分结构(ref[3])，可以把deviation也给抵消掉。其电路原理图如下图所示：

让 I u p I_{up} Iup和 I d n I_{dn} Idn都产生NMOS管和PMOS管的沟道调制偏移电流，然后再利用全差分结构抵消掉。

References
[1]. Ghasemian, Hossein; Bahrami, Amin; Abiri, Ebrahim; Salehi, Mohammad Reza (2021) A New Low-Power Charge Pump with a Glitch-Free PFD for Speedup the Acquisition Process of a PLL in 65 nm CMOS Technology. In : Circuits, Systems, and Signal Processing, vol. 97, n° 12, p. 104719. DOI: 10.1007/s00034-020-01608-2.
[2]. Jae-Shin Lee, Min-Sun Keel, Shin-I1 Lim and Suki Kim (2000) Charge pump with perfect current matching characteristics in phase-locked loops - Electronics Letters. In : ELECTRONICS LETTERS.
[3]. Qixiang Huang, Xinnan Lin, Jin He, éd. (2011) A low current mismatch and deviation charge pump with symmetrical complementary half-current circuits. Avec la collaboration de Lecture Notes in Electrical Engineering.

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