【ASML】EUV光刻技术PPT
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- EUV光刻技术如何为功率半导体提供动力
EUV光刻技术为半导体制造商提供一个前所未有的速度开发最强大芯片的机会. 现在半导体行业已经经历了大规模的改造,这可以归因于技术的演进和热情,以满足不断增加的市场预期.传统上,芯片制造商依赖于在每个芯 ...
- 光刻技术的原理和EUV光刻技术前景
本文转载自微信公众号 半导体技术天地, 链接 https://mp.weixin.qq.com/s/EEBkSQ_Yc8RYFO18VpO8ow
- 挑战EUV光刻：NIL靠谱吗？一文秒懂
芯片制造离不开光刻机,且制程越先进,其重要性越凸出,占芯片制造总成本比例也越高,总体来看,光刻机的成本占总设备成本的30%. 当制程发展到7nm后,必须要用到EUV(极紫外线)光刻机,这种光刻机只有A ...
- 芯片制造的关键——光刻技术
光刻是集成电路最重要的加工工艺,他的作用,如同金工车间中车床的作用.在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术.光刻也是制造芯片的最关键技术,他占芯片制造成本的35%以上.在如今的科 ...
- EUV极紫外光刻技术
EUV极紫外光刻技术 (1)极紫外光 波长为 13.5nm 的极紫外 (EUV) 光刻系统的最新发展,以取代 193i 光刻.为了应对多图案成本上升的趋势,EUV 系统在曝光吞吐量(每小时晶圆数),曝 ...
- 光刻技术的“鬼斧”之变
来源:脑极体 在我们今天看来,晶体管发明以后,集成电路的出现一直到今天超大规模集成电路的出现,似乎是一件水到渠成的事情.但是如果回到半导体产业初兴的历史现场,我们就会发现没有任何一项关键技术的突破是 ...
- 台积电5nm光刻技术
台积电5nm光刻技术 在IEEE IEDM会议上,台积电发表了一篇论文,概述了其5nm工艺的初步成果.对于目前使用N7或N7P工艺的客户来说,下一步将会采用此工艺,因为这两种工艺共享了一些设计规则.新 ...
- 芯片破壁者（三）：光刻技术的“鬼斧”之变
在我们今天看来,晶体管发明以后,集成电路的出现一直到今天超大规模集成电路的出现,似乎是一件水到渠成的事情.但是如果回到半导体产业初兴的历史现场,我们就会发现没有任何一项关键技术的突破是"必然 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 超临界二氧化碳处理技术在光刻技术中的应用及其对微抗蚀剂图案附着力的影响
书籍:<华林科纳-半导体工艺> 文章:超临界二氧化碳处理技术在光刻技术中的应用及其对微抗蚀剂图案附着力的影响 编号:JFKJ-21-1105 作者:华林科纳 引言 作为半导体器件和MEMS ...
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