手机与Camera CCM技术发展趋势
手机与Camera CCM技术发展趋势
CCM是CMOS Camera Module 互补金属氧化物半导体摄像模组的英文缩写，用于各种新一代便携式摄像设备的核心器件，与传统摄像系统相比具有小型化，低功耗，低成本，高影像品质的优点。
手机摄像头微型化、专业化、智能化趋势延续,模组单价持续提升。根据数据,手机应用占CCM 市场规模的70%以上,2020年,手机CCM 市场规模增长约占75%,即手机CCM 将是增长主力。尽管手机数量及摄像头渗透率渐趋饱和,手机摄像头市场导入了双摄、大光圈、自动对焦、AR 等功能加载,能持续稳定成长。
器件和栅极开启电压越来越小，栅极氧化层也必须越来越薄，可是厚度越来越低漏电就越来越大，栅极氧化层要革命了。
屏幕摄像头
各个品牌想方设法去掉前置摄像头，尽可能的做小，但最终结果早已注定：屏幕摄像头技术。
2020年下半年，中兴推出了首款量产的屏幕摄像头手机，在2021年，这项技术仍旧未成熟，大规模量产仍需等待。
量产需要过程，一是实际体验达到标准，二是成本下降得快，随后就是从旗舰机向低价位普及的过程。
手机价格上涨
近几年国产品牌冲击高端手机市场效果不错，大家都开始接受了。过万的手机不是用来卖的，而是用来秀肌肉的。看来小米也要推出折叠屏手机了，折叠屏手机仍旧是个新鲜玩意，实用性不强，但意义重大，小米MIX系列终于要推量产机了。
快充和屏幕：硬件竞赛和体验升级
屏幕刷新率从60Hz到了120Hz或者144Hz，各个品牌及时踩下了刹车，毕竟到这个水平就足够了，再增高刷新率意味着成本和耗电增加，没有必要。
快充得到60W已经满足需要了，120W可以是个终点，硕大的充电器和高功率以及高售价，提升的体验并不高，反而隔空无线充电是个大方向。厂商并不这么想，推出更高功率的产品， 60W快充和120W快充的普及。realme做的不错，千元机30W是基础，60W是常事。
屏幕显示效果提升成为了继拍照摄影之后各家发力重点，在宣传上动不动就是“最贵”的曲面屏/直屏等等，手机屏幕显示效果将会是最大卖点，而曲面屏、素皮设计或许会是各家旗舰的标配。
性价比之战延续
手机竞争将会越来越激烈。首先是华为因为芯片问题，国内市场份额第一的巨头开始份额开始下降，其它厂商参与瓜分，产品发布频率开始加快，而荣耀作为新玩家所产生的影响力未知。
各大品牌基本自成派系，基本形成了大品牌+子品牌/系列的品牌矩阵，小品牌开始退场。2020年，联想只有在年末推出了三款售价不过千元的手机；坚果手机发布一款产品后宣布放弃手机业务；魅族只推出了一款旗舰产品，开启智能家居业务，虽然宣布盈利，但产品线收缩也说明了很多问题；努比亚推出了2000元价位的中端机，旗舰机并未更新，反而红魔游戏手机还保持更新频率。
四大品牌，华为因为芯片问题，Mate系列部分款式缺货，而且需要用库存麒麟9000支撑到2022年，并且力求在此之前解决问题，否则高通、苹果等发布新一代旗舰芯片后，麒麟9000竞争力明显下降，此外，华为还要解决产品更新问题，包括折叠屏手机和P50系列。
PVD、CVD、ALD工艺特性比较
薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节，薄膜沉积工艺主要有PVD、CVD、ALD气相沉积工艺：PVD（物理气相沉积）：在真空条件下，采用物理方法，将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。CVD（化学气相沉积）：主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。ALD（原子层沉积）：可以理解为一种变相的CVD工艺，通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应器，在沉积基体上化学吸附，反应形成沉积膜的一种方法。
PVD和CVD涂层区别
CVD可以涂的更厚一点，PVD相对就薄很多。但CVD的涂层元素有限，PVD相对元素丰富。
滤光片
智能手机里常用的红外截止滤光片是一种允许可见光透过，截止或反射红外光的光学滤光片。当光线进入镜头折射后可见光和红外光会在不同靶面成像，可见光成像为彩色，红外光成像为黑白。当把可见光所成图像调试好之后红外光会在此靶面形成虛像，影响图像的颜色和质量。红外截止滤光片又可细分为两种，一种是反射式滤光片，另一种是吸收式滤光片。
目前市面上用的蓝玻璃为基材镀膜制成的吸收式滤光片，采用吸收的方式过滤红外光，可过滤630nm波段以上波长的光，用普通玻璃为基材镀膜所制成的反射式滤光片是以反射的方式过滤掉红外光，反射光容易造成干扰，效果差于蓝玻璃滤光片。
红外中性密度滤光片是金属涂覆的中性密度（ND）滤光片，其从由感兴趣的波长区域确定的衬底上的金属合金涂层获得它们的光密度。与全电介质或吸收型不同，金属型ND滤光片采用吸收和反射的组合以降低光的强度。与屏幕型设备不同，我们的ND滤光片在整个光束区域提供一致的光强度。
中性密度滤光片通常用于降低高灵敏度探测器的红外（IR）光束强度，保持线性度并提高光度精度。 ND滤光片也是评估受控实验中光学系统和组件性能的理想选择。 ND滤光片被设计为通过吸收或反射未被传输的光的部分来均匀地减少光谱的一部分上的透射。
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