集成电路布图设计专有权保护客体及内容确定

0 引言

对于集成电路芯片而言，布图设计是整个芯片的模板，更是整个芯片的灵魂，布图设计的创新程度将决定了整个集成电路产业的发展。布图设计作为人类智力劳动的成果，具有知识产权客体的许多共性特征，应当成为知识产权法保护的对象，但由于集成电路布图设计的特殊性，著作权法和专利法对集成电路布图设计都无法给予有效的保护，世界上许多国家通过单行立法，给予集成电路布图设计专有权保护。

2001 年，中国颁布实施《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》，赋予集成电路布图设计专有权保护。布图设计专有权的保护既不同于著作权法，也不同于专利法，但从著作权法中借用了大量的概念和原则，同时吸取了专利法中的一些要素，针对集成电路布图保护的特殊性质，创设一些新的原则和概念。

截至2017年底，国家知识产权局共收到集成电路布图设计登记申请1.8763万件，予以登记公告并发出证书共计1.6713万件。其中，2017年共收到集成电路布图设计登记申请3228件，予以公告并发出证书2670件。专利复审委员会累计受理13件集成电路布图设计撤销案，底审结6件。2018年7月，专利复审委网站公布3件集成电路布图设计撤销案件审查决定（第2-4号），涉及布图设计的保护客体及独创性要求。

本文将介绍集成电路布图设计专有权特性，结合案例分析了专有权保护客体以及保护内容的确定依据。

1布图设计保护的特性
1.1 布图设计知识产权保护的共性

集成电路布图设计作为人类智力劳动的成果，具备知识产权的共同特性——无形性、独占性、时空有限性，是技术进步的标志，应当成为知识产权法保护的对象。在外在形式上，集成电路布图设计表现为一系列的图形，类似于著作权法意义上的“作品”，三维的立体结构具有实现特定电子功能，其结构类似于专利法意义上的“产品”客体。

但是，“类似”毕竟不是“等同”，集成电路布图设计既不同于著作权法保护的作品，也不同于专利法所保护的技术方案，它是一种三维的配置图形设计，对它的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等，属于独特的知识产权保护客体。人们试图用著作权法、专利法、商业秘密为集成电路布图设计提供保护时，却遇到重重障碍。

1.2与著作权不兼容

集成电路布图设计的价值主要体现在其实用功能和技术因素上，其获得保护必须考虑实用性、进步性，具有较高的独创性要求，而著作权并不保护技术进步性和实用性，独创性要求比较低。

布图设计的复制是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为，其中后者是对布图设计的专有实施，这已经脱离了著作权意义上的复制。在集成电路领域，反向工程属于法定许可，但反向工程与著作权的修改权相矛盾。集成电路摩尔定律式的更新换代速度也与著作权动辄50年的保护期限不符。

1.3与专利权不兼容

集成电路布图设计实质上是一种工程图形设计，并非是工业品外观设计，作为电子元件的立体布局的表达，并不属于实用新型保护的产品。而发明被授予专利权的前提之一是具有创造性，即与现有技术相比，该发明具有突出的实质性特点和显著的进步。对布图设计来说，虽然在某些阶段其设计方案和单元电路会有变化或改进，但设计思想不变，难以达到创造性要求的高度。

此外，集成电路布图设计可以通过反向工程层层拍摄而被人知悉，难以通过商业秘密来保护布图设计。

2 布图设计专有权保护客体
2.1专有权各国立法

集成电路布图设计的保护具有特殊性，专门立法成为首选的方式。美国最先于1984年通过了《半导体芯片保护法》，随后日本、瑞典、英国、德国、荷兰等国家相继出台了门的保护集成电路布图设计的法案。随着各国对集成电路布图设计必须专门立法的特殊保护达成共识，世界知识产权组织于1989年通过了《关于集成电路的知识产权条约》，即《华盛顿条约》。世界贸易组织也拟定了《与贸易有关的知识产权协定》（TRIPS协定），并于1996年正式生效。2001 年，中国颁布实施《集成电路布图设计保护条例》和《集成电路布图设计保护条例实施细则》。

2.2专有权保护对象

我国《集成电路布图设计保护条例》第二条第一项、第二项分布规定了集成电路和集成电路布图设计的概念，构成了布图设计专有权保护对象。集成电路，是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品；集成电路布图设计，是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。保护条例中第五条规定，对集成电路布图设计的保护，不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。

根据上述规定，布图设计应当包含以下内容：两个以上半导体元件，且至少有一个有源元件；互连线路；元件的大小、位置及其互相的空间位置关系；各互连线路的尺寸大小、位置、走向及其互相的空间位置关系；元件与元件、元件与连线的连接关系等；且在基片上制造的这些元件、连线组成的电路应当能够执行某种电子功能。进行布图设计创作是为了制造具有某种电子功能的集成电路产品，设计者根据选定的某种集成电路制造技术、工艺的要求，对制造集成电路中各元件、连线时需要进行技术处理的基片中各相应区域的物理尺寸、空间位置等以图样形式进行定义。

根据保护的程度将保护分为三个层次：第一层次为仅保护布图设计；第二层次为同时保护布图设计和含有该布图设计的集成电路；第三层次为不仅保护布图设计和含有该布图设计的集成电路，还保护含前述集成电路的产品。未经布图设计专有权利人许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为人必须立即停止侵权行为，并承担赔偿责任。

2.3专有权保护客体案例

登记名称BCT001、专有权人为上海飞克浦电子科技有限公司的布图设计撤销案（申请号为BS14500182.2）中，撤销意见提出人深圳市芯茂微电子有限公司以布图设计图层中存在明显的错误为由，申请撤销该专有权。撤销意见提出人认为布图设计的结构不能构成任何有功能的集成电路，不能实现“某种电子功能”，不符合集成电路布图设计保护条例第二条第一项及第二项的规定。

该布图设计专有权人认为，对于登记文本中图层中出现的明显错误，实际上是模块的显示框，由于在提交布图登记申请而截取交底图时没有隐去模块的显示框而造成的，一般专业技术人员都可以清晰看到并识别，仅仅是显示的问题，当隐去模块显示框后，和样品体现的布图设计是一致的，不会出现无法实现一种MOS器件的问题。

合议组支持了专有权人的观点，并指出: 判断一个图样或复制件的内容是否属于集成电路布图设计保护条例第二条第一、二项规定的集成电路以及集成电路布图设计时，应当基于布图设计创作者和集成电路制造者（以下简称“创作者和制造者”）所具有的知识和能力进行评价。

首先，集成电路布图设计的登记过程中，复制件或者图样是法律规定的必须文件，而样品是只有在布图设计已经投入商业利用时才是必须提交的。因此，在确定是否属于集成电路布图设计保护条例第二条第一、二项规定的集成电路以及集成电路布图设计时，应当以提交的复制件或者图样的内容为准。本案中，判断是否具有“某种电子功能”，也应该是基于登记的图样信息。因此，专有权人关于根据芯片样品来确定能否“执行某种电子功能”的意见不能成立。

其次，专有权人可以通过提交的布图设计的复制件或图样信息，对专有权边界进行自我划界。如果一个集成电路布图设计包含多个相对独立的模块，而其中部分模块是其独创性所在，那么复制件或图样只需表达清楚该部分模块功能如何实现即可。就本案而言，需要判断：上述未显示CONT层是否使得布图设计领域的创作者和制造者认为专有权人声称的具有独创性的模块不能实现相应的功能。专有权人声称的具有独创性的模块包括三个模块，图样中未显示CONT层的缺陷，导致上述模块一不能实现相应的功能，但是根据图样信息，至少模块二、三分别可以实现静电保护和实现修整电路的输出精度和频率的电子功能。因此，根据本案布图设计的图样，本布图设计可以实现“执行某种电子功能”。

3专有权保护内容的确定
3.1确定依据分析

保护条例第十六条规定，申请布图设计登记应当提交：（一）布图设计登记申请表；（二）布图设计的复制件或者图样；（三）布图设计已投入商业利用的，提交含有该布图设计的集成电路样品；（四）国务院知识产权行政部门规定的其他材料。

依法登记是保护布图设计获得保护的先决条件。申请布图设计登记，必须提交布图设计的复制件或者图样，复制件或图样是登记授权的必要条件，而复制件或者图样的电子版本、集成电路样品提交与否并不是获得授权的必要条件。细则第三十九条规定，布图设计登记公告后，公众也可以请求查阅该布图设计的复制件或者图样的纸件，而对于电子版本的复制件或者图样，除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制。登记要求必须提交复制件或图样，公众通过查阅复制件或图样获知布图设计内容，因此，布图设计专有权的保护内容的确定以登记时提交的、并经公告公示的布图设计复制件或者图样为依据成为应有之义，布图设计专有权的保护范围也应当以此确定。

3.2专有权保护内容确定案例

昂宝公司因不服江苏高院关于侵犯其集成电路布图设计专有权案判决，向最高院申请再审，主张以登记提交的样品为依据确定涉案布图设计的保护内容，样品具有优于复制件或图样地位和作用。

最高院认为，尽管布图设计客观上存在复杂程度上的差别，进行登记时需要准备相关资料的难易程度也不相同，但没有证据表明，保护条例及细则所规定关于复制件或图样的要求，客观上是根本无法实现的。另外，对于尚未投入商业使用的布图设计进行登记，条例以及细则并无提交样品的相关规定。

对于尚未投入商业使用的布图设计，通过提交复制件或图样以及相应电子文档完成登记，属于法定要求。可见，在提交复制件或图样的问题上，无论布图设计是否投入商业使用均要求相同，没有作出区别对待。由此，如果人民法院在相关诉讼程序中忽略复制件或图样的法律地位，直接依据样品确定布图设计保护内容，极有可能引发轻视复制件或图样法律地位的错误倾向，使现行法律关于申请资料的相关要求无法落实，引发登记行为失范，产生不良导向作用。

尽管在制度设计层面，布图设计保护制度是否存在类似专利制度的“公开换保护”机制，至今仍存较大争议，但毋庸置疑的是，如果无视登记制度中关于纸质复制件或图样的要求，必然会使前述公众通过查阅方式获知布图设计内容的相关规定，形同虚设。

4 小结与讨论

集成电路布图设计图形作品，是著作权保护的法定客体，可以依照著作权法得到保护。依照布图设计制造的集成电路产品如芯片等可以依照专利法得到保护。设计图纸与集成电路产品之间的布图设计，具有客体保护与保护要件的特殊性，著作权与专利权无法形成有效保护，集成电路布图设计专有权应运而生。

根据布图设计保护的程度可分为三个层次：第一层次为仅保护布图设计；第二层次为同时保护布图设计和含有该布图设计的集成电路；第三层次为不仅保护布图设计和含有该布图设计的集成电路，还保护含前述集成电路的产品。

判断一个图样或复制件的内容是否属于集成电路布图设计保护条例第二条第一、二项规定的集成电路以及集成电路布图设计时，应当基于布图设计创作者和集成电路制造者所具有的知识和能力进行评价。在确定是否属于集成电路布图设计保护对象时，应当以提交的复制件或者图样的内容为准。

集成电路布图设计登记要求必须提交复制件或图样，公众通过查阅复制件或图样获知布图设计内容。布图设计专有权的保护内容的确定以复制件或者图样为依据，并以此确定专有权的保护范围。

布图设计中可能出现的三维配置技术构思如果可以应用于产业，并能够在产业应用中解决技术问题并实现技术效果，则它可以被撰写为一种技术方案的形式而获得专利权的保护。一旦这种三维配置技术方案获得专利权的保护，则按照这种技术方案配置而成的三维配置不论其表达形式如何都将落入专利权的保护范畴。专利权的保护范畴和强度远远大于布图设计专有权单纯地对某一种三维配置表达形式所进行的保护。

本文作者：泊头子 2018.8.2
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