本征激发:共价键上的电子收到热量本征激发形成自由电子,留下一个空穴,空穴也可以导电。
复合就是载流子运动的时候填补了空穴
导电性能与载流子的浓度有关。温度到一定能过的时候,等待一段时间本征激发与复合达到了动态平衡。原因是温度越高,本征激发越快。而复合的速度和载流子的浓度有相关性。本征半导体不易导电。
为了提高这种结构的导电性,我们要利用他的可掺杂性,也就形成了杂质半导体:在纯净的本征半导体中掺杂少量杂质元素。
N型半导体:掺入磷(五价元素),本征半导体的部分四价会被五价的磷元素

掺入一个就多了一个自由电子,导电性能立即增加。
这种半导体依旧只有有两种载流子(自由电子和空穴)。但自由电子非常多,上百万倍。因此自由电子是多子,空穴是少子。
这种情况下,温度对N型半导体中的多子影响不大,但是少子对温度的敏感性却很大。少子和多子增加的数目是一样的,但是因为基数不同,少子就会特别敏感,统共就那几个。
施主原子:供应载流子

P型半导体:多子是空穴,掺硼(三价电子)。把P型和N型半导体掺杂在一起就形成了PN结

由于扩散运动,N区自由电子就会向P区移动,P区空穴会向N区移动。形成空间电荷区,里面几乎没有电子,于是N与P产生电场阻止了他们继续向彼此运动
空间电荷区:耗尽层(阻挡层),也就是PN结

但不代表没有电子流过区,只要冲破壁垒就会过去。
少子在空间电场会立即流向另一端,这就是漂移运动
左右两边掺杂浓度一样的话左右两侧一样宽,否则浓度高就会窄,浓度低就会宽,这就是不对称结。

PN结的单向导电性
把PN结外加正向电压,外电场从左到右,抵消PN结的电场。因此一开始导电不通,就为死区。电阻的作用是限制最大电流(U/R),因此以后再使用时,需要加一个限流电阻。
加反向电压时,内外电场一致,阻挡作用更大,截至能力更强。

最左端Ubr:反向击穿
(1):雪崩击穿(掺杂浓度低时),PN结较长,就像一种链式反应,电压足够大相当于粒子加速器,直接将共价键撞开(如果温度升高,更容易本征激发,则需要的电压就越小。)
(2):齐纳击穿:PN结很狭窄,加少部分电压,但是电场很大,克服共价键束缚,击穿PN结(如果温度升高,原子上下震动,自由电子更容易打到原子上,需要电压高是为了在短时间内加到足够的速度)

IS是反向饱和电流,ut是温度电压当量,U就是加的电压 二极管中:如果给它加反向电压,反向电压在某一个范围内变化,反向电流(即此时通过二极管的电流)基本不变,好像通过二极管的电流饱和了一样,这个电流就叫反向饱和电流.其他器件中也有类似的情况.  其根本在于PN结的单向导电性。 反向电流是由少数载流子的漂移运动形成的,同时少数载流子是由本征激发产生的(当温度升高时,本征激发加强,漂移运动的载流子数量增加),当管子制成后,其数值决定于温度,而几乎与外加电压无关。在一定温度T下,由于热激发而产生的少数载流子的数量是一定的,电流的值趋于恒定,这时的电流就是反向饱和电流。

如果一个东西的电压变化,他带的电荷也变化,就反映了一个东西具有电容特性
PN结的电容效应:
1.势垒电容: 势垒电容是p-n结所具有的一种电容,即是p-n结空间电荷区(势垒区)的电容;由于势垒区中存在较强的电场,其中的载流子基本上都被驱赶出去了——耗尽,则势垒区可近似为耗尽层,故势垒电容往往也称为耗尽层电容。耗尽层电容相当于极板间距为p-n结耗尽层厚度(W)的平板电容,它与外加电压V有关 (正向电压升高时,W减薄,电容增小;反向电压升高时,W增厚,电容减大)
扩散电容:在正向偏置时,P区中的电子,N区中的空穴,会伴着远离势垒区,数量逐渐减少。即离结近处,少子数量多,离结远处,少子的数量少,有一定的浓度梯度。
正向电压增加时,N区将有更多的电子扩散到P区,也就是P区中的少子----电子浓度、浓度梯度增加。同理正向电压增加时,N区中的少子—空穴的浓度、浓度梯度也要增加。相反,正向电压降低时,少子浓度就要减少。从而表现了电容的特性。

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